उन्नत वेफर फैब्रिकेशन के लिए क्षेत्रीय ताप नियंत्रण

लिथोग्राफी फर्श पर, सॉफ्ट बेक के दौरान वेफर पर 0.3°C का ड्रिफ्ट फोटोरेजिस्टर प्रोफ़ाइल को नैनोमीटर स्तर तक शिफ्ट कर सकता है—और यही अंतर यील्ड बनाने...