Di pabrik pengemasan, ada dua hal yang secara diam-diam merusak kualitas produk: kelembapan yang masih tersisa setelah proses pembersihan, dan lapisan fotoresist yang belum benar-benar mengeras. Air yang terperangkap akan menyebabkan cacat pada permukaan wafer saat proses pengeringan dilakukan. Lapisan fotoresist yang belum sempurna mengeras akan menyebabkan adanya goresan halus, yang pada akhirnya akan berubah menjadi limbah. Yang dibutuhkan adalah proses termal yang mampu menghilangkan kelembapan tanpa merusak lapisan tipis tersebut, sekaligus memastikan lapisan fotoresist mengeras dengan baik.
Apa yang penting secara teknis?
Kami menggunakan alat pemancar gelombang inframerah dekat dengan waktu respons sub-detik. Energi yang dihasilkan langsung ditransfer ke air dan lapisan fotoresist. Pada wafer berukuran 300 mm, sistem ini mampu menjaga kestabilan suhu pada kisaran ±0,1°C, sedangkan tingkat repetibilitasnya tetap stabil pada kisaran ±0,2°C meski proses berlangsung ribuan kali. Perangkat ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1–100: desainnya dirancang untuk meminimalkan partikel, menggunakan bahan-bahan yang minim emisi gas, dan mampu menghindari pembentukan partikel sama sekali saat proses penanganan wafer berlangsung. Jumlah partikel tetap rendah meski proses pengeringan dilakukan secara perlahan atau cepat.
Mengapa metode ini efektif dalam praktiknya?
Gelombang inframerah mampu mengeringkan wafer dalam hitungan detik, sehingga waktu proses berkurang tanpa menyebabkan suhu wafer melonjak tinggi. Proses pengeringan perlahan memungkinkan terciptanya permukaan wafer yang rata dan permukaan yang kuat. Proses pengeringan cepat memastikan lapisan fotoresist mengeras dengan baik tanpa terlalu keras, sehingga kekuatan wafer meningkat dan risiko kerusakan berkurang. Hasilnya adalah lebih sedikit proses perbaikan, kualitas produk yang lebih baik, serta penggunaan energi yang lebih rendah dibandingkan oven konvensional. Perangkat ini dapat beroperasi 24/7 dengan downtime yang minimal, berkat adanya sistem pemantauan yang terus-menerus dan modul penggantian yang cepat.
Hal-hal yang perlu diperhatikan:
Gelombang inframerah membutuhkan pandangan lurus antara pemancar dan wafer, dan jaraknya harus tetap konstan agar kualitas produk tetap terjaga. Pengendalian suhu bergantung pada alat pengukur suhu yang telah dikalibrasi dengan baik, serta tabel emisivitas yang disesuaikan dengan jenis substratnya. Kami menyediakan resep yang sudah teruji untuk lapisan-lapisan umum, tetapi untuk lapisan yang baru, diperlukan uji coba singkat untuk menentukan parameter pengoperasian yang tepat. Instalasinya mudah dilakukan pada jalur standar—cukup sediakan sumber daya listrik yang stabil dan grounding yang baik agar EMI tetap terkendali.
Kesimpulan: Ini merupakan sistem kontrol termal yang dirancang khusus untuk proses pengeringan wafer dan pemrosesan lapisan fotoresist sebelum pengemasan—sistem yang dapat diandalkan, efisien, dan cepat.