Pada permukaan wafer, profil suhu yang sesuai akan membantu mengekalkan dimensi kritikal bahan fotoresist serta bentuk dinding sisi wafer tersebut. Sebarang perubahan suhu sebanyak setengah darjah boleh menyebabkan perubahan lebar garisan yang terhasil semasa proses pengeringan. Kami telah mencipta panel pemanas inframerah berbahan seramik untuk mengelakkan variasi suhu tersebut.
Komponen utama panel ini ialah unsur seramik berkependaran tinggi yang digabungkan dengan gelombang inframerah pendek. Ini membolehkan pemanasan yang cepat dan tepat, tanpa memerlukan kuantiti haba yang banyak. Di seluruh permukaan wafer, tahap keseragaman suhu adalah antara ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula kekal dalam lingkungan ±0.2°C, walaupun sistem ini beroperasi 24/7.
Panel ini juga sesuai digunakan di bilik bersih kelas 1–100. Permukaan seramik yang tertutup rapat serta bahan-bahan yang mengeluarkan gas yang sedikit membantu mengawal jumlah zarah di udara. Tindak balas panel ini sangat cepat—dalam masa milisaat sahaja—jadi ia memungkinkan kawalan suhu yang tepat semasa proses pengeringan, tanpa berlaku penyimpangan suhu yang berlebihan.
Sama ada untuk proses litografi atau stesen pengeringan yang berdiri sendiri, kawalan suhu yang baik akan membantu mencapai hasil yang stabil, mengurangkan kecacatan pada bahan fotoresist, serta memastikan proses etching berjalan dengan efektif. Anda dapat mempercepatkan proses pengeringan tanpa mengorbankan kualiti hasilnya. Selain itu, penggunaan tenaga juga berkurangan kerana adanya sistem pemanas inframerah yang efisien. Dari satu proses ke proses yang lain, pola suhu tetap konsisten, sehingga proses dapat berjalan seperti yang diharapkan.
Yang perlu diperhatikan ialah batasan praktikal yang ada. Panel ini memerlukan sokongan yang sesuai untuk mengelakkan perubahan suhu, serta sistem bekalan elektrik yang bersih agar kitaran haba dapat berfungsi dengan baik. Toleransi pemasangan sangat ketat—sekitar 0.1 mm—dan bahan antaramuka termal perlu dipilih dengan teliti untuk mengawal pelepasan gas.
Dengan penyesuaian yang tepat, panel ini dapat digunakan bersama-sama dengan alat-alat pengeringan yang sedia ada, sekaligus memberikan kawalan suhu yang tepat untuk proses litografi dan etching.