Waferin bulunduğu alanda, yumuşak pişirme sırasındaki sıcaklık profilinin doğru olması, fotoresistin boyutlarını ve yan duvarlarının şeklini belirler. Yarım derecelik bir değişiklik bile, etching işlemi sırasında hat genişliğinde önemli değişikliklere neden olur. Bu tür değişkenlikleri ortadan kaldırmak için seramik tipi kızılötesi ısıtıcı paneller geliştirdik.
Bu panellerin çekirdeği, yüksek emisyon özelliğine sahip seramik elemanlardan oluşur ve kısa dalga boylu kızılötesi ışınlarla çalışır. Böylece hızlı ve doğrudan ısıtma sağlanır; ayrıca termal kütle de en aza indirgenir. Wafer seviyesindeki eşitlik ±0,1°C civarında kalır ve ayar noktasının tekrarlanabilirliği ise ±0,2°C içinde kalır; bu da 24/7 çalışma durumlarında bile geçerlidir.
Ayrıca bu paneller, Class 1–100 temiz oda koşullarında da kullanılabilir. Mühürlenmiş seramik yüzey ve düşük gaz salınımına sahip malzemeler sayesinde parçacık sayısı kontrol altında tutulur; rampa ve benzeri işlemler sırasında hiçbir parçacık oluşmaz. Tepki süresi çok hızlıdır – milisaniye seviyesinde – böylece hem yumuşak hem de sert pişirme işlemleri için ideal sıcaklık değerleri elde edilebilir.
İster litografi işlemleri için olsun ister bağımsız pişirme istasyonları için olsun, bu termal kontrol sayesinde stabil bir CD kontrolü sağlanır, fotoresistteki hatalar azalır ve etching işleminin seçiciliği artar. Profil bütünlüğünden ödün vermeden daha hızlı pişirme döngüleri elde edilir; ayrıca verimli kızılötesi ısıtma sayesinde enerji tüketimi azalır ve bakım gereksinimleri de düşer. Her seferinde ve her parti için termal dalga formülü tekrarlanabilir olur; böylece işlem koşulları ihtiyaç duyulan şekilde ayarlanabilir.
Ancak pratik kısıtlamaları göz önünde bulundurmak gerekir. Panelin doğru şekilde monte edilebilmesi için düşük termal kütleye sahip bileşenler ve temiz elektrik bağlantıları gereklidir. Montaj toleransları oldukça sıkıdır – 0,1 mm civarında – ve gaz salınımını kontrol etmek için uygun termal arayüz malzemeleri seçilmelidir.
Doğru hizalamayla panel, mevcut sistemlere sorunsuz bir şekilde entegre edilebilir ve litografi ve etching işlemleri için gerekli olan sıcaklık kontrolünü sağlar.