На поверхні пластини саме профіль температури під час м’якого випалювання визначає критичні розміри фотополімеру та профіль його бічних стінок. Навіть незначна зміна температури на півградуса може призвести до зміни ширини ліній, що буде суттєво впливати на процес етchingу. Ми створили нашу керамічну інфрачервону панель для того, щоб усунути цю невизначеність.
Ядро панелі складається з керамічного елемента з високою емісією, який поєднується з інфрачервоним випромінюванням короткої довжини хвилі. Це дозволяє досягти швидкого та ефективного нагрівання з мінімальною кількістю теплової маси. На всій поверхні панелі однорідність температури становить ±0,1°C, а точність регулювання – ±0,2°C, навіть при безперервній роботі 24/7.
Крім того, панель підходить для використання в чистих приміщеннях класу 1–100. Закрита керамічна поверхня та матеріали з низьким рівнем випаровування допомагають контролювати кількість частинок; під час роботи не виникає жодних частинок. Швидкість реакції панелі становить кілька мілісекунд, тож можна досягти точного контролю температури під час м’якого та жорсткого випалювання, без перевищення запланованих значень.
Чи йдеться про літографічні процеси чи окремі станції випалювання – цей контроль температури забезпечує стабільність параметрів фотополімеру, менше дефектів та передбачувану селективність процесу етchingу. Це дозволяє скоротити час випалювання без порушення якості продукту, зменшити споживання енергії завдяки ефективному інфрачервоному нагріванню та зменшити кількість необхідних профілактичних заходів. Параметри температури залишаються стабільними як між окремими процесами, так і між серіями продукції, що дозволяє ефективно керувати процесом у потрібний момент.
Просто слід враховувати практичні обмеження. Панель потребує спеціальних кріплень з низькою тепловою масою та чистого електричного з’єднання для збереження стабільності теплового циклу. Допуски до встановлення є дуже строгими – до 0,1 мм. Також необхідно вибрати матеріали для теплового з’єднання, які будуть ефективно контролювати випаровування.
Якщо правильно налаштувати панель, вона буде ефективно функціонувати в існуючих системах випалювання, забезпечуючи необхідний контроль температури для літографічних та етching-процесів.