
Giảm lượng khí carbon trong phòng sạch: Phương pháp hiệu quả hơn để làm khô các tấm wafer
Thành thật mà nói, giai đoạn rửa wafer trong nhà máy sản xuất bán dẫn thường là giai đoạn tiêu tốn nhiều năng lượng nhất. Đó là nguyên nhân khiến chi phí điện tăng vọt. Trong thời gian dài, chúng ta vẫn sử dụng các lò sưởi công suất lớn để làm nóng toàn bộ căn phòng, chỉ để làm khô vài tấm wafer. Điều này thật lãng phí.
Đó là lý do tại sao chúng ta chuyển sang sử dụng đèn hồng ngoại chống nước. Thay vì làm nóng không khí xung quanh wafer, ánh sáng từ đèn được hướng trực tiếp vào chỗ có nước. Đây là phương pháp hiệu quả hơn, giúp giảm lượng khí carbon thải ra môi trường.
Xử lý tình trạng ẩm ướt
Môi trường rửa wafer rất ẩm ướt. Nếu có một giọt nước rơi vào các điện cực của đèn, đèn sẽ bị hỏng ngay lập tức. Để tránh điều này, chúng ta sử dụng vỏ bọc bằng thạch anh và các thiết bị kín khít. Những thiết bị này giúp bảo vệ bộ phận bên trong đèn khỏi ẩm ướt, trong khi phần bên ngoài vẫn hoạt động bình thường. Chúng ta sử dụng đèn hồng ngoại tia ngắn vì chúng có thể xuyên qua lớp nước trên bề mặt wafer. Nước sẽ biến mất ngay lập tức.
Tạo ra môi trường xanh hơn
Nếu bạn muốn có một nhà máy không gây hại cho môi trường, bạn cần ngừng việc tiêu tốn năng lượng không cần thiết. Các lò sưởi cũ vẫn tiếp tục hoạt động suốt cả ngày, ngay cả khi không có gì bên trong. Hệ thống hồng ngoại của chúng ta thì khác. Chúng chỉ hoạt động khi wafer được đưa vào khu vực xử lý, và tắt ngay khi wafer rời khỏi khu vực đó. Không còn nhiệt lượng dư thừa nữa. Không còn sự lãng phí nữa.
Lưu ý quan trọng: Những thiết bị này có công suất cao. Vì chúng được thiết kế để hoạt động với hiệu suất cao nhằm tiết kiệm diện tích, chúng sẽ rất nóng. Nếu khung máy của bạn không được thiết kế để thoát nhiệt tốt, nó có thể gây hư hại cho thiết bị hoặc ảnh hưởng đến nhiệt độ của các bộ phận khác. Bạn cần đảm bảo dòng khí lưu thông tốt.
Áp dụng vào thực tế
Điều tuyệt vời nhất là bạn không cần thay thế toàn bộ hệ thống hiện có. Những thiết bị này có thể thay thế trực tiếp cho các thiết bị sấy hiện tại của bạn. Chỉ cần kết nối chúng với hệ thống điều khiển PLC để chúng hoạt động đồng bộ với tốc độ vận chuyển wafer.
Vì chúng chống nước, bạn có thể sử dụng áp lực cao để rửa wafer mà không lo bị nước bắn tung tóe.
Lưu ý cuối cùng: Hãy kiểm tra các bộ phận kín hàng 6 tháng một lần. Việc này chỉ mất 5 phút thôi, nhưng nếu bộ phận kín bị hỏng, đèn sẽ không thể hoạt động. Điều này sẽ làm gián đoạn quy trình sản xuất, lãng phí vật liệu, và biến một ngày làm việc tốt thành một ngày đầy rắc rối.