<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Am Besten on Patio Infrared Heating Masters</title>
		<link>http://patio-ir-master.com/de/tags/am-besten/</link>
		<description>Recent content in Am Besten on Patio Infrared Heating Masters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>de</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 29 Jun 2026 02:44:26 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://patio-ir-master.com/de/tags/am-besten/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Beste Infrarotlampe für Fotoresist</title>
				<link>http://patio-ir-master.com/de/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/</link>
				<pubDate>Mon, 29 Jun 2026 02:44:26 +0800</pubDate>
				<guid>http://patio-ir-master.com/de/posts/best-infrared-lamp-for-photoresist/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-master.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Beste Infrarotlampe für Fotoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf dem Lithografie-Boden kann eine Abweichung der Backtemperatur um 1 °C dazu führen, dass die kritischen Abmessungen um wenige Nanometer verändert werden. Das reicht bereits aus, um ganze Chargen unbrauchbar zu machen – ohne dass man es überhaupt bemerkt. Die „sanfte“ Backung legt das Profil des Fotorezists fest, während die „starke“ Backung dieses Profil fixiert. Beides ist nur dann wirksam, wenn die Wärme gleichmäßig über die Waferfläche verteilt ist – und nicht nur an bestimmten Stellen.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
