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		<title>Verarbeitung on Patio Infrared Heating Masters</title>
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		<description>Recent content in Verarbeitung on Patio Infrared Heating Masters</description>
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				<title>Optischer Wafer Verarbeitungserhitzer</title>
				<link>http://patio-ir-master.com/de/posts/optical-wafer-processing-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 23:49:58 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-master.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Optischer Wafer Verarbeitungserhitzer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Auf der Lithografie-Etage läuft ein 300 mm Wafer im Takt der Linie vom Coat- zum Bake-Schritt. Softbake bei 90 °C, Hardbake bei 110 °C. Der Photoresist muss sich dabei von Charge zu Charge gleich verhalten. Wenn das thermische Profil driftet, zahlt man das sofort: CD-Verschiebungen, schlechte Haftung, Brückendefekte – anschließend Nacharbeit. Der Heizer ist nicht einfach eine weitere Box im Hintergrund. Er ist der Stellknopf für das thermische Budget des Photoresists.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Optische Heizer für die Waferbearbeitung sind genau für diese Kontrolle ausgelegt. Sie liefern schnelles, berührungsloses oder kontaktarmes Heizen mit enger Gleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit, sodass der Bake-Schritt nicht zur Variabilitätsquelle wird.&lt;/p&gt;</description>
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