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		<title>Tranche on Patio Infrared Heating Masters</title>
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				<title>Chauffage pour le traitement optique des plaquettes</title>
				<link>http://patio-ir-master.com/fr/posts/optical-wafer-processing-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 23:49:58 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-master.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Chauffage pour le traitement optique des plaquettes&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Sur la ligne de lithographie, une plaquette de 300 mm passe du dépôt au cuisson en synchronisation avec le takt de la ligne. Cuisson douce à 90 °C, cuisson dure à 110 °C. La résine photosensible doit se comporter de façon identique, lot après lot. Lorsque le profil thermique dérive, cela se paie immédiatement : décalage de CD, mauvaise adhérence, défauts de pontage — puis retouche. Le chauffage n’est pas simplement un élément secondaire. C’est le réglage principal du budget thermique de la résine photosensible.&lt;/p&gt;</description>
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