Forniture per la produzione di wafer B2B

Thu, 18 Jun 2026 01:02:22 +0800

Su una linea da 300 mm, una variazione di temperatura di 2°C durante il processo di essiccazione del fotorest non rappresenta un problema grave. Tuttavia, tale variazione può causare deviazioni nella larghezza dei bordi dei circuiti stampati, rendendo necessario lo scarto di parti difettose. Inoltre, ciò porta a una resa produttiva inferiore rispetto a quella desiderata. La stabilità termica non è semplicemente un vantaggio aggiuntivo: è fondamentale per il funzionamento corretto del processo.

Ciò che è davvero importante Abbiamo progettato questi dispositivi per garantire una stabilizzazione termica ottimale durante i processi di litografia: sia durante l’essiccazione delicata che quella intensiva. La uniformità della temperatura su tutta la superficie del wafer viene mantenuta entro valori di ±0,1°C. Gli elementi a base di quarzo e halogeni garantiscono un profilo di irraggiamento preciso. Le versioni a infrarosso permettono una polimerizzazione più rapida, senza che si verifichino variazioni eccessive di temperatura.

B2B on Patio Infrared Heating Masters

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