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		<title>Essiccazione on Patio Infrared Heating Masters</title>
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		<description>Recent content in Essiccazione on Patio Infrared Heating Masters</description>
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				<title>Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS</title>
				<link>http://patio-ir-master.com/it/posts/mems-sensor-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Tue, 21 Jul 2026 02:00:46 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-master.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Riscaldatore per essiccazione dei wafer dei sensori MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Come asciugare le wafer MEMS senza danneggiarle&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;L’asciugatura delle wafer dei sensori MEMS richiede una certa abilità nel bilanciamento tra i vari fattori coinvolti. È necessario utilizzare calore, e in fretta, per eliminare l’umidità presenti nelle wafer. Tuttavia, se non si fa attenzione, si rischia di distruggere quelle minuscole e delicate strutture microscopiche.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Per risolvere questo problema, utilizziamo riscaldatori a infrarossi specializzati. Il vero segreto però risiede nei riflettori rivestiti d’oro: essi assicurano che l’&lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;energia&lt;/a&gt; termica venga effettivamente concentrata sulla wafer, invece di riscaldare soltanto l’interno della macchina.&lt;/p&gt;</description>
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				<title>Asciugatura dei semiconduttori prima del confezionamento in fabbrica</title>
				<link>http://patio-ir-master.com/it/posts/drying-semiconductors-before-packaging-fab/</link>
				<pubDate>Sat, 27 Jun 2026 01:23:17 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-master.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Asciugatura dei semiconduttori prima del confezionamento in fabbrica&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Nelle fabbriche di imballaggio, due fattori influiscono negativamente sulla qualità dei prodotti: l’umidità che rimane dopo la pulizia e il photosensibile che non è stato completamente indurito. L’acqua intrappolata può causare difetti nei componenti quando questi vengono sottoposti a calore. Il photosensibile non completamente indurito, invece, provoca graffi microscopici durante il processo di taglio, i quali si accumulano fino a rendere il prodotto inutilizzabile. Quello di cui si ha bisogno è quindi un processo termico in grado di eliminare l’acqua senza danneggiare i film sottili, e che permetta di controllare con precisione lo stato del photosensibile.&lt;/p&gt;</description>
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