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		<title>投稿 on Patio Infrared Heating Masters</title>
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				<title>CMP後ウェーハ乾燥ヒーター</title>
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				<pubDate>Sat, 06 Jun 2026 01:08:55 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-master.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;CMP後ウェーハ乾燥ヒーター&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ファブフロアでは、CMP後のわずかな水跡が&lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;歩留&lt;/a&gt;まりを大きく損なう。従来の乾燥工程では微小な液滴が残留するか、粒子を巻き上げて次のリソグラフィ工程の障害要因となる。そこで当社は、損失が生じる最初の段階で食い止めるため、Post-CMPウェハ乾燥用ヒーターを開発した。&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;内部の重要要素&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;ウェハへは短波長赤外線エミッターを照射し、ウェハ全体にわたってサブミリメートル単位の熱均一性を実現している。温度は±0.1℃以内に厳密に管理され、バッチ間の再現性が確保されている。装置はClass 1–100クリーンルーム内で稼働し、乾燥サイクル中の粒子発生はゼロに抑えられている。再現性は付加的な仕様ではなく、設計段階から組み込まれている。&lt;/p&gt;</description>
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