<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Optikal on Patio Infrared Heating Masters</title>
		<link>http://patio-ir-master.com/ms/tags/optikal/</link>
		<description>Recent content in Optikal on Patio Infrared Heating Masters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 31 May 2026 23:49:58 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://patio-ir-master.com/ms/tags/optikal/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas pemprosesan wafer optik</title>
				<link>http://patio-ir-master.com/ms/posts/optical-wafer-processing-heater/</link>
				<pubDate>Sun, 31 May 2026 23:49:58 +0800</pubDate>
				<guid>http://patio-ir-master.com/ms/posts/optical-wafer-processing-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-master.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png&#34; alt=&#34;Pemanas pemprosesan wafer optik&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di lantai litografi, wafer 300 mm bergerak dari proses coat ke bake selaras dengan takt garis pengeluaran. Soft bake pada 90 °C, hard bake pada 110 °C. Photoresist mesti berfungsi dengan cara yang sama, lot demi lot. Apabila profil terma berubah, kesannya segera dirasai: pergeseran CD, lekatan yang lemah, kecacatan jambatan—kemudian perlu rework. Pemanas bukan sekadar kotak biasa di latar belakang. Ia adalah tombol kawalan bagi bajet terma photoresist.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pemanas pemprosesan wafer optik dibina untuk kawalan tersebut. Ia menyediakan pemanasan pantas, sentuhan rendah atau tanpa sentuhan dengan uniformiti dan kebolehulangan yang ketat, supaya langkah bake tidak menjadi sumber variabiliti.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
