Pembuatan on Patio Infrared Heating Masters

Penyelesaian pembuatan fabrik yang mampan

Tue, 28 Jul 2026 02:53:29 +0800

Mengekalkan kebersihan bilik bersih kelas 100 walaupun suhu tinggi
Menjaga kebersihan bilik bersih kelas 100 merupakan tugas yang sangat sukar jika tidak berhati-hati. Ia bukan hanya berkaitan dengan penapis udara sahaja. Jika komponen pemanasan mengeluarkan zarah-zarah atau gas berbahaya, ia akan menyebabkan masalah besar.

Itulah sebabnya kami menggunakan kuarsa sintetik yang berkualiti tinggi untuk lampu inframerah kami. Kaca biasa atau bahan murah tidak sesuai digunakan. Bahan tersebut akan pecah dan rosak. Apabila zarah-zarah kecil ini sampai ke permukaan wafer atau substrat, keseluruhan proses pengeluaran akan terganggu.

Pemanas untuk pembuatan nanotube karbon

Thu, 23 Jul 2026 09:38:49 +0800

Mendapatkan suhu yang tepat semasa pembuatan CNT
Jika anda bekerja dengan nanotube karbon (CNT), anda pasti tahu betapa sukarnya tugas ini. Anda memerlukan suhu yang tepat, dan ia perlu dicapai dengan segera. Jika suhu berubah sedikit saja, atau jika proses reaksi memakan masa yang terlalu lama, keseluruhan produk yang dihasilkan akan rosak.

Itulah sebabnya kami meninggalkan penggunaan pemanas jenis resistif yang lambat tersebut. Sebaliknya, kami menggunakan sistem inframerah berkecekapan tinggi. Kelebihan sistem inframerah ialah sumber haba tidak perlu bersentuhan dengan permukaan bahan yang diproses. Energi haba dapat dihantar terus ke tempat yang diperlukan.

Pembuatan biosensor menggunakan lampu inframerah

Fri, 17 Jul 2026 01:42:07 +0800

Jangan Biarkan Sistem Penderia Biologi Anda Menjadi Sumber Bahaya Kebakaran

Jika anda membuat penderia biologi sendiri, anda pasti tahu betapa pentingnya proses pengeringan menggunakan cahaya inframerah yang tepat. Namun, masalahnya adalah apabila proses ini dilakukan berhampiran dengan bahan kimia atau pelarut yang mudah terbakar, lampu inframerah biasa boleh menjadi bom masa yang berbahaya.

Sekiranya ada kesilapan, ia boleh menyebabkan kebakaran. Itulah sebabnya kami membina sistem pemanasan inframerah dengan lapisan pelindung khas untuk mengelakkan kebakaran di persekitaran yang mudah terbakar.

Keperalatan untuk pengeluaran wafer B2B

Thu, 18 Jun 2026 01:02:22 +0800

Pada garis pengeluaran sepanjang 300 mm, perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist tidak akan menimbulkan masalah yang serius. Perubahan suhu ini akan menyebabkan perbezaan ketebalan garisan yang dihasilkan, serta penolakan sebahagian daripada produk yang dihasilkan. Selain itu, kadar pengeluaran pada pukul 7 pagi juga tidak akan memenuhi jangkaan yang ditetapkan. Stabiliti termal bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan; ia merupakan faktor penting dalam proses pengeluaran.

Apa yang penting sebenarnya
Kami telah mencipta alat-alat ini untuk memastikan kawalan suhu yang tepat semasa proses litografi – sama ada melalui kaedah pembakaran lembut atau keras. Kekonsistenan suhu pada setiap lapisan wafer dikekalkan pada tahap ±0.1°C sepanjang keseluruhan proses pengeluaran. Unsur-unsur kuarsa-halogen membantu mencapai profil radiasi yang boleh diramal. Pilihan NIR pula membolehkan proses pengeringan berlaku dengan lebih cepat, tanpa berlaku perubahan suhu yang berlebihan.