B2B levering van waferproductieonderdelen

Thu, 18 Jun 2026 01:02:22 +0800

Op een lijn van 300 mm heeft een afwijking van 2°C tijdens het bakken van de fotoresist geen negatieve gevolgen. Dit komt tot uiting in afwijkingen in de breedte van de lijnen, goederen die niet bruikbaar zijn, en een rendement van 7 uur ’s ochtends dat helemaal niet gewenst is. Thermische stabiliteit is geen luxe – het is een essentieel onderdeel van het proces.

Wat er echt toe doet We hebben deze apparaten ontworpen voor gebruik in de lithografieprocesen – zowel voor zacht als hard bakken. De uniformiteit op het niveau van de wafer moet binnen een marge van ±0,1°C blijven gedurende het hele proces. Quartz-halogeen-elementen zorgen voor een voorspelbaar stralingspatroon. NIR-opties zorgen voor een snellere verharding van de materiaallaag, zonder dat er sprake is van excessieve temperaturen.

Forraden on Patio Infrared Heating Masters

B2B levering van waferproductieonderdelen