การทำความร้อนแบบแบ่งโซนสำหรับการผลิตเวเฟอร์ขั้นสูง

บนชั้นลิโธกราฟี การเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิ 0.3°C ตลอดแผ่นเวเฟอร์ในระหว่างการอบแบบซอฟต์เบค...