<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>CMP on Patio Infrared Heating Masters</title>
		<link>http://patio-ir-master.com/vi/tags/cmp/</link>
		<description>Recent content in CMP on Patio Infrared Heating Masters</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 06 Jun 2026 01:08:55 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://patio-ir-master.com/vi/tags/cmp/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Máy sấy wafer sau CMP</title>
				<link>http://patio-ir-master.com/vi/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</link>
				<pubDate>Sat, 06 Jun 2026 01:08:55 +0800</pubDate>
				<guid>http://patio-ir-master.com/vi/posts/post-cmp-wafer-drying-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://patio-ir-master.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Máy sấy wafer sau CMP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên sàn sản xuất, chỉ một vết nước sau CMP cũng đủ làm giảm tỷ lệ thành phẩm. Phương pháp sấy khô truyền thống để lại các giọt nhỏ li ti hoặc làm khuấy động các hạt gây nhiễm bẩn bước in tiếp theo. Chúng tôi đã phát triển bộ gia nhiệt sấy wafer sau CMP nhằm ngăn chặn thiệt hại ngay từ giai đoạn đầu.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Điều quan trọng bên &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;trong&lt;/a&gt;&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Chúng tôi chiếu tia hồng ngoại sóng ngắn lên wafer, đảm bảo độ đồng đều nhiệt dưới 1 mm trên toàn bề mặt. Nhiệt độ duy trì trong khoảng ±0.1°C, giúp đảm bảo tính nhất quán giữa các lần chạy. Thiết bị hoạt động trong phòng sạch Class 1–100 mà không làm tăng số lượng hạt bụi—không phát sinh hạt bụi trong quá trình sấy. Tính lặp lại không phải là phần bổ sung thêm mà đã được tính toán trong thiết kế.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
