Auf der Wafer-Oberfläche sorgt das sanfte Erhitzungsprofil dafür, dass die kritischen Abmessungen des Fotoleitmittels sowie das Profil der Seitenwände genau gehalten werden. Eine Abweichung von einem halben Grad führt zu einer Verschiebung der Linienbreite – diese Verschiebung wirkt sich direkt auf den Etch-Prozess aus. Wir haben unser keramisches Infrarotheizsystem so konzipiert, dass diese Unsicherheiten ausgeglichen werden.
Der Kern des Heizsystems besteht aus einem hochemittierenden keramischen Element in Kombination mit Kurzwellen-Infrarotstrahlung. Dadurch wird eine schnelle, direkte Erwärmung erreicht – bei minimalem Wärmemassenverbrauch. Auf der gesamten Fläche des Chucks bleibt die Homogenität der Temperatur bei ±0,1 °C, und die Wiederholgenauigkeit des Setpoints liegt bei ±0,2 °C – auch bei 24/7-Betrieb.
Das System funktioniert außerdem in Reinräumen der Klasse 1–100. Die versiegelte keramische Oberfläche sowie Materialien mit geringer Gasemission sorgen dafür, dass die Anzahl der Partikel unter Kontrolle bleibt – es entstehen während des Betriebs keine neuen Partikel. Die Reaktionszeit ist sehr kurz – es handelt sich dabei um eine Millisekundenkontrolle – sodass präzise Temperaturen erreicht werden können, ohne dass es zu Überschreitungen kommt.
Egal ob es sich um Lithografieanlagen oder eigenständige Erhitzungsstationen handelt: Diese thermische Präzision führt zu einer stabilen Kontrolle der Abmessungen des Fotoleitmittels, weniger Defekten im Fotoleiter sowie einer vorhersehbaren Selektivität beim Etch-Prozess. So lassen sich schnellere Erhitzungszyklen realisieren, ohne dass die Integrität des Profils beeinträchtigt wird. Zudem wird weniger Energie verbraucht – dank der effizienten Infrarottechnologie – und es kommen weniger Wartungsausfälle vor. Von Charge zu Charge bleibt die thermische Wellenform konstant – dadurch können die Prozesse dort durchgeführt werden, wo sie benötigt werden.
Bedenken Sie jedoch die praktischen Einschränkungen: Das Heizpanel benötigt passende Komponenten mit geringer Wärmemasse sowie einen sauberen elektrischen Anschluss, damit der thermische Kreislauf intakt bleibt. Die Montagegenauigkeiten sind sehr streng – innerhalb von 0,1 mm. Zudem müssen geeignete Materialien für die Steuerung der Gasemissionen verwendet werden.
Wenn die Ausrichtung richtig ist, passt das Heizpanel problemlos in vorhandene Anlagen und Tools – und liefert somit die gewünschte Temperaturregelung für Ihre Lithografie- und Etch-Prozesse.