Pada jalur produksi berukuran 300 mm, perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan photoresist tidak akan menimbulkan masalah serius. Perubahan suhu tersebut hanya akan menyebabkan penyimpangan pada lebar garis hasil pencetakan, serta penolakan produk yang dihasilkan. Selain itu, tingkat keberhasilan produksi pun akan menurun, padahal hal ini tentu saja tidak diinginkan. Stabilitas termal merupakan hal yang sangat penting; ini merupakan bagian tak terpisahkan dari proses produksi.
Apa yang benar-benar penting Kami merancang peralatan ini untuk memenuhi persyaratan termal dalam proses litografi—baik proses pemanasan ringan maupun intensif. Konsistensi suhu di seluruh permukaan wafer harus tetap di antara ±0,1°C sepanjang proses produksi. Komponen kuarsa-halogen memberikan profil radiasi yang dapat diprediksi dengan baik. Pilihan jenis NIR memungkinkan proses pengeringan yang lebih cepat, tanpa terjadi penyimpangan suhu yang berlebihan.
Peralatan ini cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Tidak ada partikel yang dihasilkan selama proses operasi, sebab hal ini telah diverifikasi melalui pengukuran di tempat. Bahan-bahan yang digunakan juga tidak mengeluarkan gas berbahaya. Peralatan ini dapat beroperasi 24/7 tanpa adanya downtime yang tidak terduga. Umur pakai peralatan ini mencapai lebih dari 5.000 jam, dengan penyimpangan performa kurang dari 5%.
Mengapa peralatan ini cocok untuk digunakan di pabrik Dalam bisnis ini, repetibilitas merupakan hal yang sangat penting. Sistem kami mampu menjaga suhu tetap stabil, sehingga kontrol dimensi kritis tetap akurat, dan profil photoresist tetap sama, mulai dari batch ke-100 hingga batch ke-10.000.
Anda akan mendapatkan produktivitas yang stabil, tanpa perlu melakukan perbaikan akibat perubahan suhu. Konsumsi energi juga lebih rendah berkat efisiensi sistem pendinginan. Selain itu, jumlah komponen yang perlu diganti juga berkurang berkat umur pakai yang panjang. Hasilnya: penyimpangan yang lebih sedikit, distribusi yang lebih baik, dan OEE yang lebih tinggi.
Hal-hal yang perlu diperhatikan Peralatan ini dirancang untuk digunakan langsung dalam proses pemanasan standar. Namun, efektivitas sistem pendinginan bisa berubah tergantung pada geometri ruang pemanasan dan aliran gasnya. Oleh karena itu, diperlukan proses kalibrasi singkat untuk menyesuaikan parameter PID dan memastikan konsistensi suhu sesuai dengan setting peralatan Anda.
Lakukan hal ini sejak awal. Dengan begitu, profil pemanasan akan tetap sesuai spesifikasi, dari shift ke shift berikutnya.