Cara Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Merusaknya Mengeringkan wafer sensor MEMS membutuhkan kehati-hatian yang tinggi. Diperlukan panas yang cukup untuk...

Mencegah Lampu Pengeringan Wafer dari Menyebabkan Kecelakaan Sejujurnya, memasukkan lampu inframerah berkekuatan tinggi ke dalam ruangan yang penuh...

Menghentikan “Kebiasaan Buruk” Ini: Menjaga Kebersihan Wafer Selama Proses Pemanasan yang Intensif Jika Anda pernah bekerja di bidang produksi...

Hentikan Kerusakan Akibat pecahnya lampu IR: Mengapa desain lampu IR sangat penting Jika Anda pernah mengalami situasi di mana lampu IR meledak saat...

Sensor Suhu pada Alat Pemrosesan Wafer: Cara Kami Mempastikan Keamanan Listrik Melalui Pengujian Tegangan Tinggi 100% Pada alat pemrosesan wafer,...

Di fasilitas pengolahan wafer, proses pemotongan menggunakan laser tidak boleh menunggu apa pun. Jika pemanas penyangga mulai mengalami gangguan,...

Pada jalur produksi berukuran 300 mm, perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan photoresist tidak akan menimbulkan masalah serius. Perubahan...

Di pabrik pengolahan wafer, proses pengeringan poliimida bukanlah langkah yang bisa diabaikan begitu saja. Ini merupakan bagian dari manajemen suhu...

Di lantai litografi, drift suhu 0,3°C di seluruh wafer selama soft bake dapat menggeser profil photoresist hingga nanometer—dan itu adalah batas...

Di lantai produksi, satu saja bekas air setelah CMP dapat menggagalkan hasil produksi. Pengeringan konvensional meninggalkan mikro-tetesan atau...

Di lantai pabrik, timer yang terlewat pada oven pengering wafer bukan sekadar menghentikan jalur produksi. Ini dapat mengganggu proses soft bake...

Di lantai litografi, wafer 300 mm mengalir dari proses coating ke baking sesuai dengan takt line. Soft bake pada 90 °C, hard bake pada 110 °C....