先進ウェーハ製造工場向けゾーンド加熱

リソグラフィ工程において、ソフトベイク中のウエハ全体での温度変動が0.3℃に達すると、フォトレジストのプロファイルがナノメートル単位でずれることがあり、それが歩留まり確保と不良品量産の境界線となる。この不確実性を排除するため、先端ウエハファブ向けにゾーン別加熱システムを開発した。 技術的に重要な点...