제조 현장에서 폴리이미드의 경화 과정은 단순히 체크해야 할 단계가 아닙니다. 이는 반드시 관리해야 하는 열적 조건입니다. 몇 도라도 온도 제어에 실패하면, 웨이퍼의 표면이 고르지 않아지거나, 접착력이 약해지거나, 웨이퍼가 변형될 수 있습니다. 오늘날의 공정 환경에서는 그런 실수를 용납할 여지가 전혀 없습니다.
핵심적인 요소들 폴리이미드의 경화에는 안정적이고 일관된 열이 필요합니다. 우리는 웨이퍼 전체의 온도를 ±0.1°C 이내로 유지하여, 웨이퍼의 모든 부분이 동일한 열 처리를 받도록 합니다. 단파 적외선을 사용하면 폴리이미드가 열을 효과적으로 흡수하므로, 가열 시간을 줄일 수 있으며, 과열 현상도 방지됩니다.
클린룸 클래스 1–100과의 호환성도 설계 단계에서 고려됩니다. 낮은 가스 배출량을 가진 재료와 밀폐된 챔버, 그리고 내부 필터링 시스템 덕분에 장시간 작업해도 입자 수가 일정하게 유지됩니다. 입자가 전혀 발생하지 않는 것은 단순한 슬로건이 아니라, 실제로 준수해야 하는 규칙입니다. 이를 위해 실시간 모니터링도 함께 이루어집니다.
이 시스템이 유용한 이유 동일한 시스템을 사용하여 웨이퍼 건조, 포토레지스트의 소프트 베이크 및 하드 베이크, 패키징 과정, 그리고 세척 후 건조 과정까지 처리할 수 있습니다. 따라서 열 처리 프로필을 다시 설정할 필요가 없습니다. 포토레지스트의 베이크 온도를 정밀하게 제어함으로써, 웨이퍼의 CD 값을 더욱 정확하게 조절할 수 있으며, 웨이퍼의 측면 형태도 더욱 일관되게 만들 수 있습니다.
반복적인 작업을 통해 폐기물과 재작업이 줄어들고, 생산 주기도 단축됩니다. 또한 에너지 사용량도 줄어듭니다. 왜냐하면 단파 적외선은 챔버 벽이 아닌 필름 자체를 직접 가열하기 때문입니다. 이 시스템은 24/7 연속 작동을 위해 설계되었으며, 예상 가능한 유지보수만으로도 문제없이 작동할 수 있습니다.
주의해야 할 사항 단파 적외선은 직선적인 경로로 열을 전달하기 때문에, 적층된 층의 높이와 방사率가 중요합니다. 우리는 특정 폴리이미드의 두께와 그 아래에 있는 층들에 맞는 최적의 프로필을 설정하기 위해 간단한 테스트를 수행합니다.
시스템의 크기는 작고 설치도 간단하지만, 설치 전에 전력, 배기 시스템, 클린룸 인터페이스 등을 미리 준비해두어야 합니다. 그렇지 않으면 설치 중에 생산이 중단될 수 있습니다.