Below you will find pages that utilize the taxonomy term “CMP” CMP 후 웨이퍼 건조 히터 Role 현장에서는 CMP 후 단 한 개의 워터 마크만으로도 수율에 심각한 영향을 미칠 수 있다. 기존 건조 방식은 미세한 물방울을 남기거나 입자를 재부유시켜 이후 리소그래피 공정을 오염시킨다. 우리는 이러한 손실이 시작되는 지점에서 바로 차단하기 위해... Read more...
CMP 후 웨이퍼 건조 히터 Role 현장에서는 CMP 후 단 한 개의 워터 마크만으로도 수율에 심각한 영향을 미칠 수 있다. 기존 건조 방식은 미세한 물방울을 남기거나 입자를 재부유시켜 이후 리소그래피 공정을 오염시킨다. 우리는 이러한 손실이 시작되는 지점에서 바로 차단하기 위해... Read more...
