In de verpakkingsfabriek zijn er twee factoren die de productiecapaciteit negatief beïnvloeden: vocht dat na het schoonmaken nog aanwezig is, en fotoresistent die niet volledig is gehard. Het vastgehouden water zorgt voor defecten wanneer het materiaal wordt verhit. Fotoresistent dat onvoldoende is gehard, leidt tot micro-schade die uiteindelijk resulteert in afval. Wat nodig is, is een thermisch proces dat het vocht kan verwijderen zonder de dunne lagen te beschadigen, en dat de structuur van de fotoresistent op een betrouwbare manier kan bepalen.
Wat technisch gezien belangrijk is:
Wij gebruiken emissieapparaten die golven in het nabije infrarode gebied gebruiken. Deze apparaten reageren binnen enkele seconden en zetten energie rechtstreeks in het water en de fotoresistentfilm. Op een plakje van 300 mm blijft de temperatuur binnen ±0,1°C, en de herhalbaarheid van de instellingen blijft op ±0,2°C, zelfs na duizenden cycli. De hardware is ontworpen voor omgevingen met een zuiverheidsniveau van Class 1–100: er wordt gebruik gemaakt van materialen waarbij zich minimale deeltjes vormen, en er wordt geen emissie van deeltjes geproduceerd tijdens het bewerken van de plakjes. Het aantal deeltjes blijft onder de gewenste grens, dankzij zachte en harde droogprocessen.
Waarom dit in de praktijk werkt:
NIR-apparaten kunnen plakjes in seconden drogen, waardoor de verwerkingstijd wordt verkort, zonder dat de temperatuur te hoog wordt. Zachte droogprocessen houden de temperatuur binnen beperkte grenzen, waardoor de kwaliteit van het product consistent blijft. Harde droogprocessen zorgen voor een stabiele structuur van de fotoresistent, zonder dat deze te veel wordt gehard. Dit zorgt voor een betere kwaliteit van de chips en minder afval. Het resultaat is minder herwerkingswerk, een voorspelbare productiecapaciteit en lagere energieverbruik per batch vergeleken met convectieovens. Deze apparaten kunnen 24/7 draaien, met minimale stilstandtijden. Ze worden bovendien gecontroleerd door continu monitoring en snelle vervangingsmogelijkheden.
Wat je moet onthouden:
Voor NIR-apparaten is een zichtlijn nodig, en de afstand tussen de emitter en het plakje moet constant en reproduceerbaar zijn om uniformiteit te behouden. De temperatuurregeling hangt af van gekalibreerde apparaten en emissietabellen die zijn aangepast aan het type substraat. Wij leveren al gevalideerde instellingen voor veelvoorkomende filmsoorten, maar voor nieuwe combinaties is een kort testproces nodig om de juiste instellingen vast te stellen. De installatie is eenvoudig: er is alleen schone stroom nodig en een geïsoleerde gronding om EMI te verminderen.
Kortom: dit is een effectief thermisch systeem dat is ontworpen voor het drogen van plakjes en het verwerken van fotoresistenten vóór verpakking – nauwkeurig, efficiënt en snel.