如何在不损坏MEMS晶片的情况下将其烘干
烘干MEMS传感器晶片其实需要巧妙地平衡各种因素。必须使用热量来去除水分，而且需要尽快做到这一点。但如果不小心的话，那些极其微小的结构就可能会被破坏。
为了解决这个问题，我们会使用专门的红外加热器。不过，真正的关键在于那些镀有金的反射器。它们能确保热量准确照射到晶片上，而不会让机器内部过热。
为什么选择黄金而非铝材
普通的铝制反射器虽然可以满足基本需求，但它们会吸收过多的红外能量，这显然是一种浪费。我们选择高纯度的黄金涂层，因为它能够将近红外光精准地反射到所需位置。这样一来，热量就能更集中地作用于晶片上。由于热量如此集中，因此只需降低系统的总功率，就能让硅晶片达到所需的温度。这样效率更高。
如何处理热量
在设置烘干系统时，通常需要的是短暂而强烈的热源。黄金反射器正好能提供这样的热源，从而实现快速烘干的效果。
不过需要注意的是，要密切关注晶片载体。因为热量过于集中，可能会导致局部过热，进而使材料变形。此外，还要注意冷却风扇的性能。如果冷却风扇不足以应对腔室内的热量，那么周围环境的温度就会上升。一旦出现这种情况，工艺的重复性就会受到影响。
保持设备正常运行
我们尽量将加热器做得小巧一些，这样它们就能轻松地放入真空或常压环境中。不过，有一点需要注意：黄金涂层其实很薄。如果工作环境中有腐蚀性气体，就需要对反射器进行保护，否则化学物质会侵蚀掉黄金涂层。建议定期检查反射器是否有腐蚀或变色现象。一旦黄金涂层开始降解，设备的效率就会下降。这时，就需要增加功率来弥补不足，而这无疑会加速灯管的损耗。