工厂干燥设备的能源审计
停止在晶圆干燥系统中浪费热量 说实话,晶圆干燥的关键在于让能量准确地传递到需要的地方。但如果仍然使用旧式或性能不佳的反射器,那无疑是在白白浪费能量。
我们通过使用镀金技术来解决这个问题。其目的很简单:防止能量泄漏,让热量直接作用于晶圆表面。
为什么选择黄金?
大多数人使用的是普通的铝制反射器,但问...
MEMS传感器晶圆干燥加热器
如何在不损坏MEMS晶片的情况下将其烘干
烘干MEMS传感器晶片其实需要巧妙地平衡各种因素。必须使用热量来去除水分,而且需要尽快做到这一点。但如果不小心的话,那些极其微小的结构就可能会被破坏。
为了解决这个问题,我们会使用专门的红外加热器。不过,真正的关键在于那些镀有金的反射器。它们能确保热量准确...
在封装前对半导体进行干燥处理
在封装工厂中,有两类因素会悄悄降低产品合格率:一是清洁后残留的水分,二是未能完全固化的光刻胶。当封装材料受热时,这些水分会引发各种缺陷。而未完全固化的光刻胶则会在切割过程中产生微小的划痕,进而导致芯片成为废品。因此,需要一种既能有效去除水分又不会对薄膜造成损伤的热处理工艺,同时还要能够精确控制光刻...
后CMP晶圆干燥加热器
在晶圆厂车间,CMP后一个水痕就足以导致良品率损失。传统干燥方法会留下微小液滴,或搅动颗粒,污染后续的光刻步骤。我们开发的Post-CMP晶圆干燥加热器,就是为从源头防止这种损失而设计。
关键技术细节
我们采用短波红外发射器照射晶圆,实现整个表面亚毫米级的热均匀性。温度控制在±0.1°C内,确保批...
晶圆干燥炉定时器
在生产车间,晶圆干燥炉上错过的定时器不仅仅是停线。它可能会导致光刻胶的软烘烤不足,在干燥过程中形成皮膜,并在产量数据中显示残留溶剂或图案缺陷。我们构建了带定时器的晶圆干燥炉,以确保这些热处理步骤的锁定和可重复性。定时和温度在光刻和晶圆准备中都是不可妥协的。
其核心是与工作相匹配的热堆叠。短波红外发...