CMP後ウェーハ乾燥ヒーター

ファブフロアでは、CMP後のわずかな水跡が歩留まりを大きく損なう。従来の乾燥工程では微小な液滴が残留するか、粒子を巻き上げて次のリソグラフィ工程の障害要因となる。そこで当社は、損失が生じる最初の段階で食い止めるため、Post-CMPウェハ乾燥用ヒーターを開発した。 内部の重要要素 ウェハへは短波長...