Di bilik litografi, perubahan suhu sebanyak 1°C semasa proses pembakaran boleh menyebabkan perubahan pada dimensi kritikal bahan tersebut, dan perubahan ini boleh berlaku dalam skala nanometer. Ini sudah cukup untuk memusnahkan keseluruhan produk yang dihasilkan, tanpa kita sedari. Proses pembakaran lembut digunakan untuk menetapkan profil bahan fotorezist, manakala proses pembakaran keras pula digunakan untuk mengunci profil tersebut. Kedua-dua proses ini tidak akan berkesan jika suhu tidak seragam di seluruh permukaan wafer – bukan hanya di bahagian tertentu sahaja.
Apa yang penting dari segi reka bentuk sistem
Kami menggunakan lampu inframerah yang mempunyai pancaran gelombang pendek, yang diletakkan dalam selubung kuarsa. Ini membolehkan pemanasan yang cepat dan tepat, dengan beban yang minimum pada substrat. Keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer kekal dalam lingkungan ±0.1°C, dan kami mengukurnya menggunakan termokopel yang terdapat pada alat tersebut. Reka bentuk sistem ini juga memastikan bahawa bahan-bahan yang digunakan tidak mengeluarkan gas berbahaya, pembungkusan yang memenuhi standard Kelas 1–100, serta tiada penjanaan zarah-zarah berbahaya setelah proses berlangsung. Sistem ini dapat mengekalkan nilai suhu yang tetap, sehingga setiap proses pembakaran lembut dan keras berlangsung dalam lingkungan yang ditetapkan. Penggunaan tenaga pula dikawal melalui kawalan pulsa dan reflektor yang sesuai, supaya beban haba tetap rendah sementara output tetap stabil.
Mengapa sistem ini sesuai untuk pengeluaran secara besar-besaran
Dalam proses pengeluaran, apa yang penting adalah konsistensi dimensi kritikal bahan tersebut, pengurangan bilangan kerja ulang, serta hasil pengeluaran yang boleh diramalkan. Sistem ini membolehkan proses pemanasan yang cepat tanpa melebihi had yang ditetapkan, masa proses yang lebih singkat, serta profil bahan fotorezist yang tetap konsisten dari satu batch ke batch yang lain. Lampu-lampu ini tahan lama, boleh beroperasi 24/7 tanpa penurunan prestasi yang ketara. Kami telah melihat lampu-lampu ini beroperasi selama lebih dari 5,000 jam dengan penurunan intensiti kurang dari 5%. Penyelenggaraan pun menjadi lebih mudah, dan masa henti yang tidak dijangka berkurangan. Secara ringkasnya, sistem ini memberikan kebolehulangan yang tinggi, kerana kawalan suhu yang baik memastikan bahan fotorezist kekal dalam spesifikasi yang ditetapkan.
Hal-hal yang perlu diperhatikan semasa pemasangan
Semasa pemasangan, perlu dipastikan bahawa penyesuaian optik dilakukan dengan betul, dan sistem pengaturan kuasa yang efektif digunakan untuk mengekalkan spektrum cahaya yang stabil. Periksa juga bahan dan lapisan pelindung pada chuck tersebut untuk memastikan ia tidak menyerap cahaya inframerah; jika tidak, akan timbul perbezaan suhu di permukaan wafer. Lampu-lampu ini juga memerlukan cecair penyejuk yang berkualiti tinggi – jika kekonduksian cecair tersebut tinggi, akan timbul titik panas pada selubung lampu. Selain itu, perlu ada jadual kalibrasi untuk memastikan keseragaman suhu pada tahap ±0.1°C, dan jumlah zarah berbahaya tetap berada pada tahap yang ditetapkan.