در فرآیند تولید، خشک کردن پلیایمید یک مرحلهی قابل بررسی نیست؛ بلکه یک فرآیند حرارتی است که باید به درستی مدیریت شود. اگر دما چند درجه از حد مورد نظر فاصله بگیرد، منجر به عدم تکمیل فرآیند صافسازی سطح ویفر، ضعف چسبندگی، یا ایجاد تنشهایی که باعث تغییر شکل ویفر میشود، خواهد شد. در فناوریهای امروزی، جایی برای چنین اشتباهاتی وجود ندارد.
چه چیزی اهمیت دارد؟
خشک کردن پلیایمید نیازمند حرارتی پایدار و قابل تکرار است. ما سعی میکنیم یکنواختی دما را در محدوده±۰.۱ درجه سانتیگراد حفظ کنیم؛ تا کل لایه پلیایمید از لبههای مختلف، همان شرایط حرارتی را داشته باشد. استفاده از حرارت مادون قرمز کوتاهامواج، باعث کاهش زمان لازم برای خشک کردن پلیایمید میشود؛ در حالی که از ایجاد نقاط گرم در سطح ویفر جلوگیری میشود.
سازگاری این سیستم با استانداردهای اتاقهای پاک، در طراحی آن لحاظ شده است؛ موادی که گاز کمی تولید میکنند، محفظههای بسته، و سیستمهای فیلتراسیون داخلی، باعث حفظ تعداد ذرات در سطح پایینی میشوند. عدم تولید هیچ ذرهای، تنها یک اصل نیست؛ بلکه یک الزامی است که ما با نظارت مداوم، آن را رعایت میکنیم.
چرا این سیستم موفق است؟
همین سیستم، وظایف مختلفی مانند خشک کردن ویفر، فرآیندهای مربوط به فوتورزیست، بستهبندی ویفر، و خشک کردن آن پس از تمیزکاری را انجام میدهد؛ بدون اینکه نیاز به تنظیم مجدد شرایط حرارتی باشد. کنترل دقیق دمای فرآیند فوتورزیست، منجر به کنترل بهتر کیفیت ویفر و یکنواختی سطح آن میشود.
تکرارپذیری این فرآیند، باعث کاهش مواد اضافی و نیاز به بازسازی، کاهش زمان فرآیند، و بهبود بازدهی تولید میشود. مصرف انرژی نیز کاهش مییابد؛ زیرا حرارت مادون قرمز، مستقیماً لایه پلیایمید را گرم میکند، نه دیوارههای محفظه. این سیستم برای کار ۲۴ ساعته طراحی شده است؛ و نیاز به تعمیرات نیز قابل پیشبینی است.
چه چیزهایی را باید در نظر بگیرید؟
حرارت مادون قرمز، نیازمند خط دید مناسبی است؛ بنابراین ارتفاع لایهها و میزان انتشار حرارت اهمیت دارد. ما یک آزمایش کوتاه انجام میدهیم تا شرایط حرارتی مناسب برای ضخامت خاص پلیایمید و لایههای زیرین آن تعیین شود.
ابعاد این سیستم کوچک است و ادغام آن نیز آسان است؛ اما باید امکانات لازم مانند برق، سیستمهای تخلیه هوا، و اتصالات مربوط به اتاقهای پاک، از قبل آماده شوند؛ تا در هنگام نصب، مشکلی پیش نیاید.