リソグラフィ工程において、ソフトベイク中のウエハ全体での温度変動が0.3℃に達すると、フォトレジストのプロファイルがナノメートル単位でずれることがあり、それが歩留まり確保と不良品量産の境界線となる。この不確実性を排除するため、先端ウエハファブ向けにゾーン別加熱システムを開発した。 技術的に重要な点...

ファブフロアでは、熱の逸脱は単なる非効率ではなく歩留まりを著しく低下させる要因である。わずか1℃のずれでもソフトベーク時のフォトレジストの膜厚にばらつきが生じ、半乾燥状態のドライ工程では残留した水分がパターンの整合性を損なう。リニア赤外線ヒーティングエミッターは、制御可能なエネルギーを直接ターゲッ...