웨이퍼가 놓이는 표면에서는, 적절한 온도 프로파일이 포토레지스트의 치수와 측벽 형태를 안정적으로 유지시켜 줍니다. 온도가 0.5도만 변해도 선의 너비에 오차가 생기게 되며, 이는 에칭 과정에 직접적인 영향을 미칩니다. 저희는 이러한 변수들을 없애기 위해 특수한 세라믹형 적외선 히터를 개발했습니다.
이 히터의 핵심은 고방사율 세라믹 소재와 단파 적외선 기술의 조합입니다. 이를 통해 최소한의 열량으로 신속하고 정확한 가열이 가능합니다. 웨이퍼 전체의 온도 균일성은 ±0.1°C 수준을 유지하며, 설정된 온도를 반복할 때도 ±0.2°C 이내로 유지됩니다. 이러한 성능은 24/7 연속 작동 시에도 변하지 않습니다.
또한, 이 히터는 클래스 1–100급 청정실에서도 문제없이 사용됩니다. 밀폐된 세라믹 표면과 낮은 가스 방출특성 덕분에 입자 수를 효과적으로 제어할 수 있으며, 가열 과정 중에는 입자가 전혀 발생하지 않습니다. 반응 속도도 매우 빠르기 때문에, 정확한 온도 제어가 가능하여 과열 현상을 방지할 수 있습니다.
리소그래피 공정이든 독립적인 가열 장치든, 이러한 열 제어 기술 덕분에 안정적인 CD 제어가 가능해지고, 포토레지스트의 결함도 줄어듭니다. 또한, 효율적인 적외선 가열 덕분에 에너지 소비도 줄어들고, 유지보수 비용도 감소합니다. 공정마다, 그리고 로트마다 열 파형이 일관되게 유지되므로, 필요한 시점에 원하는 온도 조건을 만들어낼 수 있습니다.
단, 실제 사용 시에는 몇 가지 제약 사항을 고려해야 합니다. 히터가 제대로 작동하려면 적절한 저열량의 고정 장치와 깨끗한 전력 공급이 필요합니다. 설치 tolerances는 매우 엄격하여 0.1mm 이내여야 하며, 가스 방출을 억제하기 위한 적절한 열 접촉 재료도 필요합니다.
정렬을 제대로 해주면, 이 히터는 기존의 리소그래피 및 에칭 장비에 쉽게 설치될 수 있으며, 리소그래피 및 에칭 공정에 필요한 정확한 온도 제어가 가능해집니다.