标签为“处理;加工”的页面如下 光学晶圆处理加热器 在光刻车间,300 mm晶圆从涂胶到烘烤严格按照产线节拍同步进行。软烘烤温度为90 °C,硬烘烤温度为110 °C。光刻胶必须在每批次中表现一致。当热剖面发生漂移,会立即导致后果:CD偏移、附着力差、桥接缺陷,进而需要返工。加热器不仅仅是后台的一个普通设备,而是控制光刻胶热预算的关键调节器。 光学... Read more...
光学晶圆处理加热器 在光刻车间,300 mm晶圆从涂胶到烘烤严格按照产线节拍同步进行。软烘烤温度为90 °C,硬烘烤温度为110 °C。光刻胶必须在每批次中表现一致。当热剖面发生漂移,会立即导致后果:CD偏移、附着力差、桥接缺陷,进而需要返工。加热器不仅仅是后台的一个普通设备,而是控制光刻胶热预算的关键调节器。 光学... Read more...