Dalam kilang pembungkusan, terdapat dua faktor yang boleh merosakkan kualiti produk: kelembapan yang masih ada selepas proses pembersihan, dan bahan fotoresist yang belum dikeringkan sepenuhnya. Air yang terperangkap akan menyebabkan kecacatan pada permukaan wafer apabila bahan pengasing digunakan untuk membungkus wafer tersebut. Bahan fotoresist yang tidak dikeringkan dengan sempurna pula akan menyebabkan kesan calar halus pada permukaan wafer, yang akhirnya akan menjadikan wafer tersebut tidak layak digunakan. Apa yang diperlukan ialah proses pemanasan yang efektif untuk mengeluarkan air tanpa merosakkan lapisan tipis tersebut, serta proses pengeringan yang dapat mengawal kualiti bahan fotoresist dengan tepat.
Apa yang penting dari segi teknikal
Kita menggunakan alat pemancar gelombang inframerah dekat yang mampu bertindak balas dalam masa beberapa saat sahaja. Tenaga yang dihasilkan akan disalurkan terus ke dalam air dan lapisan fotoresist. Pada wafer berukuran 300 mm, sistem ini dapat mengekalkan suhu yang seragam pada tahap ±0.1°C, dan ketepatan pengaturan suhu tetap pada tahap ±0.2°C walaupun melalui ribuan kitaran pengeringan. Peranti ini direka khusus untuk bilik bersih kelas 1–100: reka bentuk yang mengurangkan jumlah zarah, bahan yang kurang mengeluarkan gas, serta sistem yang memastikan tiada zarah terbentuk semasa proses pengendalian wafer. Jumlah zarah sentiasa berada di bawah had yang ditetapkan melalui proses pengeringan yang betul.
Mengapa ia berkesan dalam praktik
Pemancar NIR mampu mengeringkan wafer dalam masa beberapa saat sahaja, jadi masa yang diperlukan untuk proses pengeringan berkurangan tanpa meningkatkan suhu wafer secara mendadak. Proses pengeringan yang lembut memastikan permukaan wafer tetap rata dan melekat dengan baik. Proses pengeringan yang lebih intensif pula memastikan struktur bahan fotoresist menjadi stabil tanpa berlaku pengeringan berlebihan. Hasilnya, jumlah wafer yang perlu diproses semula berkurangan, kualiti produk lebih boleh diramalkan, dan penggunaan tenaga juga berkurangan berbanding dengan kaedah pengeringan konvensional. Peranti ini boleh beroperasi 24/7 dengan masa henti yang minimum, kerana ia dilengkapi dengan sistem pemantauan yang berterusan serta komponen yang boleh diganti dengan cepat.
Apa yang perlu diingat
Pemancar NIR memerlukan pandangan yang jelas antara pemancar dan wafer, dan jarak antara kedua-duanya perlu tetap untuk memastikan keseragaman. Kawalan suhu pula bergantung pada alat pengukur suhu yang telah dikalibrasi dengan tepat. Kami menyediakan formula yang telah disahkan untuk jenis lapisan fotoresist yang biasa digunakan, namun lapisan fotoresist yang baru perlu melalui ujian pendek terlebih dahulu untuk menentukan parameter yang sesuai. Pemasangan peranti ini mudah dilakukan pada landasan standard—cukup gunakan sumber kuasa yang stabil dan sistem grounding yang efektif untuk memastikan tiada gangguan elektromagnetik.
Secara ringkasnya, ini merupakan sistem kawalan suhu yang sangat sesuai untuk proses pengeringan wafer dan pemprosesan bahan fotoresist sebelum pembungkusan—sistem yang boleh diulang, bersih, dan cepat.