Cara Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Merosakkannya Mengeringkan wafer sensor MEMS memerlukan keseimbangan yang tepat. Anda memerlukan haba yang cukup...

Mencegah Lampu Pengeringan Wafer Daripada Menyebabkan Kebakaran Sejujurnya, meletakkan lampu inframerah berkuasa tinggi di dalam bilik yang penuh...

Menghentikan mimpi buruk: Menjaga kebersihan wafer semasa proses pemanasan yang intensif Jika anda pernah bekerja dalam pengeluaran semikonduktor...

Hentikan kejadian pecahan lampu IR: Mengapa reka bentuk lampu IR sangat penting Jika anda pernah mengalami keadaan di mana lampu IR pecah semasa...

Pengesan Suhu Alat Pemprosesan Wafer: Bagaimana Kita Memastikan Keselamatan Elektrik Melalui Ujian Tegangan Tinggi 100% Dalam alat pemprosesan wafer,...

Di fasiliti pengeluaran, proses pemotongan wafer menggunakan laser tidak memerlukan masa menunggu. Jika pemanas yang digunakan untuk menyokong wafer...

Pada garis pengeluaran sepanjang 300 mm, perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran bahan fotoresist tidak akan menimbulkan masalah yang...

Di fasiliti pengeluaran, proses pengerasan poliimida bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan begitu sahaja. Ia merupakan aspek penting yang perlu...

Pada tingkat litografi, perubahan suhu sebanyak 0.3°C merentasi wafer semasa soft bake boleh mengalihkan profil photoresist sehingga nanometer—dan...

Di lantai fab, pemasa yang terlepas pada oven pengeringan wafer bukan sekadar menghentikan garis. Ia boleh menyebabkan kekurangan fotoresist dalam...

Di lantai litografi, wafer 300 mm bergerak dari proses coat ke bake selaras dengan takt garis pengeluaran. Soft bake pada 90 °C, hard bake pada 110...