MEMS yongalarını kırmadan kurutma işlemi MEMS sensör yongalarını kurutmak oldukça hassas bir işlemdir. Nemden kurtulabilmek için ısıya ihtiyaç vardır...

Wafer’lerin Kurutulmasında Kullanılan Lambaların Patlamasını Önleme Yöntemleri Dürüst olalım: Yüksek sıcaklıkta çalışan kızılötesi lambaları uçucu...

Kâbusu Durdurmak: Yüksek Yük Altında Wafer’ların Temiz Kalmasını Sağlamak Eğer yüksek hacimli yarı iletken üretimi konusunda çalıştıysanız bu durumu...

Kırılan parçaların önüne geçin: IR lamba tasarımının neden bu kadar önemli olduğu Yüksek yük altında çalışan yarı iletken cihazlarda IR lambanızın...

Wafer İşleme Aletlerindeki Sıcaklık Sensörleri: %100 Yüksek Gerilim Testleriyle Elektriksel Güvenliği Nasıl Sağlıyoruz? Wafer işleme aletlerinde...

Üretim alanında lazer kesim işlemi hiçbir şeyi beklemez. Eğer destekleyici ısıtıcılar düzgün çalışmazsa, wafer’in termal dengesi bozulur; foto...

300 mm’lik hatlarda, fotorezistin pişirilmesi sırasında meydana gelen 2°C’lik bir sapma önemli bir sorun teşkil etmez. Bu durum, çizgi...

On litografi katında, yumuşak pişirme sırasında plaka boyunca 0.3°C’lik bir sıcaklık kayması, fotoresist profilini nanometreler mertebesinde...

İmalat katında, CMP sonrası tek bir su lekesi bile verimi düşürmeye yeter. Geleneksel kurutma yöntemleri mikro damlacıklar bırakır veya sonraki...

Fabrika zemininde, wafer kurutma fırınındaki bir kaçırılan zamanlayıcı sadece bir hat durması değildir. Fotoresist yumuşak pişirme aşamasını...

Litografi katında, 300 mm’lik bir wafer, coat işleminden bake aşamasına hattın takt süresiyle senkronize şekilde akar. Yumuşak bake 90 °C’de, sert...