クリーンルームでの炭素削減：ウェハをより効率的に乾燥させる方法
正直に言って、半導体製造工程における洗浄工程は、エネルギーが無駄に消費される場所です。これは巨大なエネルギー消費源です。長い間、私たちは大規模な対流式オーブンを使って部屋全体を温めて、わずか数枚のウェハを乾燥させていました。これは明らかに無駄な行為です。
そこで、私たちは防水型の赤外線ランプを採用しました。ウェハの周囲の空気を温める代わりに、熱を正確に水がある場所に集中させます。これにより、より効率的でクリーンな処理が可能になり、結果として二酸化炭素の排出量も削減できます。
混乱を防ぐための対策
洗浄環境は非常に過酷です。至る所に湿気があり、もし一滴でも水がランプの電極に触れると、ランプはすぐに破損します。これを防ぐために、石英製のケースや密閉構造を使用しています。これにより、ランプの内部は完全に乾燥した状態を保ち、外部では混乱を管理できます。また、短波長の赤外線を使用することで、ウェハ表面の水層を直接加熱できます。水は単に乾くだけでなく、数秒で蒸発してしまいます。
より環境に優しい工場を作るために
地球を破壊しない工場を作りたいのであれば、不要な熱エネルギーの支払いをやめる必要があります。従来のオーブンは、中に何も入っていなくても一日中高温のままです。しかし、私たちの赤外線システムは異なります。これは「オンデマンド」方式です。ウェハがそのゾーンに入った瞬間にランプが作動し、ウェハが出て行くとすぐに停止します。無駄な熱エネルギーも、無駄なコストもありません。
ただし、注意が必要です。これらの装置は非常に強力です。床面積を節約するために高密度の出力が求められるため、非常に高温になります。もし筐体がその熱を逃がす設計になっていなければ、筐体が変形したり、次の工程の温度が乱れたりする可能性があります。適切な風量を確保することが重要です。
実際に使ってみると…
最良な点は、既存の乾燥装置を全部取り替える必要がないことです。これらは、現在の乾燥装置の代替品として使用できます。PLCの制御システムに接続すれば、コンベヤーの速度に合わせて動作します。
また、防水機能があるため、高圧での洗浄を行っても心配する必要はありません。
ただ一つお願いがあります。6ヶ月ごとに密封部分を確認してください。5分程度で済みますが、密封部分が壊れるとランプが故障します。そうなると、生産ラインが止まり、材料も無駄になり、良い一日が台無しになってしまいます。